Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3

Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3 由 SPIE 出版，属中科院物理与天体物理大类（2025 升级版3区）。按 OpenAlex 近年发文统计，该刊主要发表 Advancements in Photolithography Techniques、Silicon and Solar Cell Technologies、Advanced Surface Polishing Techniques 等主题的论文，这 3 个主题约占 38.8%，主导子领域为 Electrical and Electronic Engineering、Biomedical Engineering。（根据 OpenAlex 主题统计与中科院分区数据生成）

该刊近年发文主要集中在：Advancements in Photolithography Techniques（24.5%）、Silicon and Solar Cell Technologies（8.2%）、Advanced Surface Polishing Techniques（6.1%）、Electronic Packaging and Soldering Technologies（4.1%）、Advanced X-ray Imaging Techniques（4.1%）、Copper Interconnects and Reliability（4.1%）、Optical Coatings and Gratings（4.1%）、Nonlinear Optical Materials Studies（4.1%）；所属学科：Engineering、Materials Science、Physics and Astronomy；来源标注的研究方向：Multiple-。（领域画像由 OpenAlex 发文统计生成，占比为近似值，非期刊官方描述）

由 OpenAlex 主题分布与研究方向自动生成的领域画像，非期刊官方表述。

研究方向（LetPub）：Multiple

中科院期刊分区表

数据库收录

SCIEScopusLetPub

国际期刊预警名单：各版本均未列入LetPub

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影响力指标

影响因子

2.27LetPub · 2026-09-13

CiteScore 2026-06

4.3LetPub · 2026-09-13

SJR 2026-06

0.44LetPub · 2026-09-13

SNIP 2026-06

1.79LetPub · 2026-09-13

h-index

2OpenAlex · 2026-10-01

i10-index

1OpenAlex · 2026-10-01

两年平均被引

0OpenAlex · 2026-10-01

自引率

17.4%LetPub · 2026-09-13

Gold OA 文章占比

19.9%LetPub · 2026-09-13

发文规模

年文章数

79LetPub · 2026-09-13

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出版商

SPIE

ISSN

1932-5150

电子版 ISSN

2708-8340