Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS

Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS 由 SPIE 出版，属中科院物理与天体物理大类（2025 升级版3区）。按 OpenAlex 近年发文统计，该刊主要发表 Advancements in Photolithography Techniques、Silicon and Solar Cell Technologies、Advanced Surface Polishing Techniques 等主题的论文，这 3 个主题约占 38.8%，主导子领域为 Electrical and Electronic Engineering、Biomedical Engineering。（根据 OpenAlex 主题统计与中科院分区数据生成）

The Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) publishes peer-reviewed papers on the science, development, and practice of lithographic, fabrication, packaging, and integration technologies necessary to address the needs of the electronics, microelectromechanical systems, micro-optoelectromechanical systems, and photonics industries.

来源：LetPub

研究方向（LetPub）：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY

中科院期刊分区表

数据库收录

ScopusLetPub

国际期刊预警名单：各版本均未列入LetPub

不同版本、大类与小类分别展示，不将不同评价口径合并为一个分区值；投稿与考核前请确认所在机构采用的版本。

影响力指标

影响因子

1.81LetPub · 2026-09-13

CiteScore 2026-06

3.4LetPub · 2026-09-13

SJR 2026-06

0.39LetPub · 2026-09-13

SNIP 2026-06

1.72LetPub · 2026-09-13

h-index

37LetPub · 2026-09-13

h-index

2OpenAlex · 2026-10-01

i10-index

1OpenAlex · 2026-10-01

两年平均被引

0OpenAlex · 2026-10-01

Gold OA 文章占比

7.69%LetPub · 2026-09-13

不同来源的统计口径与观测时间不同，页面保留各来源原值；“出版商公布”为期刊官网自述数据。

平均审稿速度（社区反馈）

较慢,6-12周LetPub · 2026-09-13

平均录用比例（社区反馈）

容易LetPub · 2026-09-13

社区反馈来自投稿者样本，置信度 0.5，不代表期刊承诺；“出版商公布”的时间节点定义以官网为准。

尚未从任何来源获得费用信息，请以期刊官网为准。

混合期刊的文章处理费仅在作者选择开放获取发表时收取；按订阅方式发表通常不收费。

费用以期刊官网为准；不同来源的观测时间可能不同，页面保留各来源原值，不做平均。

出版商

SPIE

出版国家或地区

UNITED STATES

出版语言

English

出版周期

Quarterly

创刊年份

2007

ISSN

1932-5150

电子版 ISSN

1932-5134

官方链接

• 期刊主页 ↗LetPub
• 投稿系统 ↗LetPub