期刊档案 · 工程技术-材料科学：膜
Chemical Vapor Deposition
ISSN 0948-1907 · GERMANY · Bimonthly
Chemical Vapor Deposition 订阅期刊，投稿社区反馈审稿超过 12 周，录用比例容易（社区反馈），2025 年发文 0 篇。
研究范围
研究范围与定位
Chemical Vapor Deposition。按 OpenAlex 近年发文统计，该刊主要发表 Semiconductor materials and devices、Advanced Materials and Semiconductor Technologies、Copper Interconnects and Reliability 等主题的论文，这 3 个主题约占 51.9%，主导子领域为 Materials Chemistry。（根据 OpenAlex 主题统计与中科院分区数据生成）
该刊近年发文主要集中在：Semiconductor materials and devices（23.8%）、Advanced Materials and Semiconductor Technologies（17.9%）、Copper Interconnects and Reliability（10.2%）、Metal and Thin Film Mechanics（4.1%）、TiO2 Photocatalysis and Solar Cells（3%）、Diamond and Carbon-based Materials Research（3%）、Silicon Carbide Semiconductor Technologies（2.6%）、Carbon Nanotubes in Composites（2.5%）；所属学科：Materials Science、Engineering、Energy；来源标注的研究方向：工程技术-材料科学：膜。（领域画像由 OpenAlex 发文统计生成，占比为近似值，非期刊官方描述）
由 OpenAlex 主题分布与研究方向自动生成的领域画像，非期刊官方表述。
研究方向（LetPub）：工程技术-材料科学：膜
主要研究主题 OpenAlex 近年发文统计，占比为近似值
- Semiconductor materials and devicesEngineering23.8%
- Advanced Materials and Semiconductor TechnologiesMaterials Science17.9%
- Copper Interconnects and ReliabilityMaterials Science10.2%
- Metal and Thin Film MechanicsEngineering4.1%
- TiO2 Photocatalysis and Solar CellsEnergy3%
- Diamond and Carbon-based Materials ResearchMaterials Science3%
- Silicon Carbide Semiconductor TechnologiesEngineering2.6%
- Carbon Nanotubes in CompositesMaterials Science2.5%
分区与收录
学科分区与数据库收录
中科院期刊分区表
期刊分区表（ 2025年3月升级版）未收录
该期刊未被此版本分区表收录。
《新锐期刊分区表》（ 2026年3月发布）未收录
该期刊未被此版本分区表收录。
期刊分区表（ 2023年12月旧的升级版）未收录
该期刊未被此版本分区表收录。
数据库收录
收录数据库：暂无记录。
国际期刊预警名单：各版本均未列入LetPub
不同版本、大类与小类分别展示，不将不同评价口径合并为一个分区值；投稿与考核前请确认所在机构采用的版本。
指标
影响力指标与发文规模
影响力指标
- h-index
- 71OpenAlex ·
- i10-index
- 716OpenAlex ·
- 两年平均被引
- 0OpenAlex ·
- Gold OA 文章占比
- 0%LetPub ·
逐年发文量 OpenAlex 统计 · 累计 1,440 篇 · 当年数据不完整
| 年份 | 发文量 | 其中 OA | 被引 |
|---|---|---|---|
| 2026 | 0 | 0 | 507 |
| 2025 | 0 | 0 | 854 |
| 2024 | 0 | 0 | 958 |
| 2023 | 0 | 0 | 974 |
| 2022 | 0 | 0 | 1,151 |
| 2021 | 0 | 0 | 1,268 |
不同来源的统计口径与观测时间不同，页面保留各来源原值；“出版商公布”为期刊官网自述数据。
审稿与录用
审稿周期与录用情况
- 平均审稿速度（社区反馈）
- >12周，或约稿LetPub ·
- 平均录用比例（社区反馈）
- 容易LetPub ·
社区反馈来自投稿者样本，置信度 0.5，不代表期刊承诺；“出版商公布”的时间节点定义以官网为准。
费用与开放获取
版面费与开放获取政策
订阅期刊LetPub
订阅期刊，文章需订阅或购买阅读，通常不收取版面费。
尚未从任何来源获得费用信息，请以期刊官网为准。
费用以期刊官网为准；不同来源的观测时间可能不同，页面保留各来源原值，不做平均。
基本信息
出版信息与官方入口
- 出版国家或地区
- GERMANY
- 出版周期
- Bimonthly
- ISSN
- 0948-1907
- 官方链接
- 期刊主页 ↗OpenAlex
常见问题
关于 Chemical Vapor Deposition 的常见问题
Chemical Vapor Deposition 的审稿周期多长？
投稿社区反馈的平均审稿速度为超过 12 周，平均录用比例反馈为“容易”。文章统计只含被录用的稿件，出版商数据口径以官网为准，社区反馈来自投稿者样本，均不代表期刊承诺。
Chemical Vapor Deposition 是开放获取期刊吗？版面费多少？
Chemical Vapor Deposition 为订阅期刊。费用信息尚未获得，请以官网为准。
来源与更新
本页事实来自 LetPub、OpenAlex；每个数字旁标注来源与观测日期，冲突数据保留各来源原值。LetPub 原始详情页：查看 ↗（2026-08-26 归档）。最近更新：。